概述
IPAN-P850低氧工作站拥有专利的电动可调遮光屏,可一键调控工作腔的透光与遮光的切换,以实现在透光状态下进行内腔实验操作,在遮光状态下进行细胞的避光培养。
产品特点
裸手“直进直出”操作,强制对流循环,正压内腔,高达480L大空间
标配紫外消毒功能,支持酒精擦拭、氧化剂熏蒸等消毒方式
高清液晶显示,配备百分比O2和CO2探头,原位检测气体环境
配备电动可调遮光屏,可实现透光下操作,暗环境下培养
技术参数
体积与容量 | 温度与环境 | |
有效工作腔体积:480L | 温度范围:室温+4℃~48℃ | |
主腔样品容量:500~810块培养皿 | 温度精度:±0.1℃ | |
转移闸体积:12L | 温度均一性:±0.5℃ | |
转移闸容量:60块培养皿 | 配备百分比O2、CO2探头, 可进行浓度监测或控制 | |
电气配置 | 气体控制 | |
内置紫外灯(254nm) | O2浓度控制范围:0~20% | |
双防爆型内置电源插座 | O2浓度控制精度:±0.1% | |
避光观察前屏:电动可调遮光屏,触控/遥控 | CO2浓度控制范围:0~20% | |
电源要求:220V,50Hz | CO2浓度控制精度:±0.1% |
应用领域